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技術文章

場發(fā)射掃描電鏡的工作原理和應用領域介紹

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  場發(fā)射掃描電鏡采用更為先進的肖脫基場發(fā)射光源。采用場發(fā)射光源后電子束能量更強,二次電子相(也就是我們平時所說的掃描照片)更加清晰,放大倍數(shù)在理想的情況下可以達到10萬倍以上。同時,在進行EBSD的測試中也具有相當?shù)膬?yōu)勢。主要由電子光學系統(tǒng)、信號收集處理系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、圖像處理顯示和記錄系統(tǒng)、樣品室樣品臺、電源系統(tǒng)和計算機控制系統(tǒng)等組成。
 
  場發(fā)射掃描電鏡的工作原理
 
  掃描電子顯微鏡是以能量為1—30kV間的電子束,以光柵狀掃描方式照射到被分析試樣的表面上,利用入射電子和試樣表面物質(zhì)相互作用所產(chǎn)生的二次電子和背散射電子成像,獲得試樣表面微觀組織結構和形貌信息。配置波譜儀和能譜儀,利用所產(chǎn)生的X射線對試樣進行定性和定量化學成分分析。
 
  場發(fā)射掃描電鏡的應用領域
 
  適用于納米材料精細形貌的觀察,可薛利高質(zhì)量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析??上驑悠肥页淙攵喾N氣體,在低真空下仍能獲得優(yōu)于2nm的高分辨圖像;可向樣品室通入水蒸氣,使含水、含油及不導樣品可直接觀察;可在樣品室內(nèi)對樣品做加溫、低溫處理,對化學反應過程進行實時觀測。該設備適用于物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質(zhì)礦物、生物、醫(yī)學等領域的微觀研究和分析。

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